飞秒激光诱导击穿光谱中辐射强度与压力的关系外文翻译资料

 2021-12-21 09:12

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飞秒激光诱导击穿光谱中辐射强度与压力的关系

分析原子光谱学杂志2004年10月

二: 10.1039/b404132a

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Serife Yalcin

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文章

飞秒激光诱导击穿光谱中辐射强度与压力的关系

www.rsc.org/jaas

S- erife Yalccedil; ın, Ying Y. Tsui and Robert Fedosejevs*

加拿大艾伯塔省埃德蒙顿艾伯塔大学电气与计算机工程系T6G 2V4。电子邮件:rfed@ee.ualberta.ca;传真:(780)492-1811

2004年3月18日收到,2004年7月27日接受

于2004年9月8日首次在网上发布

飞秒激光产生等离子体的辐射强度已被表征为压力的函数,并应用于激光诱导击穿光谱(LIBS)中。用Ti:蓝宝石激光系统(130fs,800nm)进行实验,从大气压下降低至10-3 Torr,脉冲能量约为1-50mJ,(0.1-5Jcm-2) )。在几Torr背景气压下,Al,Mg,Si和Cu元素的特征谱线相比于大气压下表现出显着的信号强度增强。在低背景气压下,由于等离子体寿命的延长将带来更大的烧蚀尺寸,所以放射测量结果也增强。压力进一步降低至10-3 Torr将导致信号强度降低,这是由于当等离子体羽流膨胀到环境大气中时辐射线的碰撞激发减少的结果。也可以观察到低压下的信号增强很大程度上取决于测量延迟时间。延迟时间为200 ns时,中性Al I线,396 nm处,4 Torr压力的信号强度下相对于大气压下增强了67倍,而当没有测量延迟时间时,信号增强仅为4倍。在4托压力下可以观察到最佳信噪比为850,延迟时间为85 ns。烧蚀尺寸的测量结果显示烧蚀质量与压力没有直接关系,表明由于飞秒激光脉冲的脉冲持续时间很短,故而只发生很少的等离子体屏蔽现象。

介绍

DOI:10.11/b404132a

飞秒激光脉冲的高峰值功率密度允许在低能量下击穿和电离材料表面。这种击穿等离子体技术用于各种固体样品的光谱化学分析,例如电感耦合等离子体原子发射光谱/质谱(LA-ICP-AES / MS)和激光诱导击穿光谱(LIBS)。然而,关于LIBS1–5 和LA-ICPMS6,7 用于分析应用的飞秒激光的研究还较为有限。飞秒激光脉冲也用于激光微加工8–11 ,快速化学反应研究12 和外科研究等。13 需要注意的是,烧蚀因素和激光动力学是飞秒激光脉冲的各种应用的重要课题。

在这些应用中,在使用mJ能量范围内的低能量脉冲有一些优点。当使用小焦点时,可以用非常低的能量实现击穿和电离,并且在文献14–17 中报道了一些采用这种mJ脉冲能量的研究。由高能纳秒激光脉冲产生的等离子体通常具有显着的等离子体屏蔽效应18 ,这会降低分析的效率。使用低能量激光脉冲可显着降低使用纳秒激光等离子体时遇到的等离子屏蔽效应。此外,由低能量脉冲产生的等离子体具有相对小的背景连续发射谱,这可能允许使用非门控CCD相机作为检测器而非昂贵的门控CCD。

LIBS对固体化学分析中的谱线强度影响有几个因素,如:激光脉冲长

资料编号:[4155]

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